会议论文《反应磁控溅射法制备MgO薄膜》介绍了利用反应磁控溅射技术制备氧化镁（MgO）薄膜的方法。该研究探讨了工艺参数对薄膜结构和性能的影响，旨在优化制备过程以获得高质量的MgO薄膜。论文为中国电子学会真空电子学分会第十九届学术年会提供了重要的技术参考，对于相关领域的研究具有积极意义。
文档为pdf格式，1.25MB，总共3页。
举报
