会议论文《纳米片状碳膜的场发射机理研究》探讨了纳米片状碳膜在场发射过程中的物理机制。该研究通过实验与理论分析，揭示了材料结构、表面形貌及电场强度对场发射性能的影响。论文为高性能场发射器件的设计提供了理论依据，具有重要的学术价值和应用前景。
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