离子束刻蚀型碲镉汞的迁移率谱分析 - 上海市红外与遥感学会第十九届年会.pdf

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2026-1-10 07:52 | 查看全部 阅读模式

会议论文《离子束刻蚀型碲镉汞的迁移率谱分析》探讨了通过离子束刻蚀技术处理后的碲镉汞材料的迁移率特性。该研究为红外探测器的性能优化提供了理论依据,对提升器件灵敏度和响应速度具有重要意义。文章在上海市红外与遥感学会第十九届年会上发表,展示了当前红外材料研究的最新进展。

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离子束刻蚀型碲镉汞的迁移率谱分析 - 上海市红外与遥感学会第十九届年会
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