聚碳硅烷高温裂解原位生成SiC涂层研究 - 第十七届全国高技术陶瓷学术年会.pdf

183 0
2025-12-14 21:39 | 查看全部 阅读模式

论文《聚碳硅烷高温裂解原位生成SiC涂层研究》发表于第十七届全国高技术陶瓷学术年会,主要探讨了通过聚碳硅烷高温裂解原位生成SiC涂层的工艺与性能。研究分析了不同热处理条件对涂层结构和性能的影响,为高性能陶瓷涂层的制备提供了理论依据和技术支持。

文档为pdf格式,1.11MB,总共3页。
聚碳硅烷高温裂解原位生成SiC涂层研究 - 第十七届全国高技术陶瓷学术年会
文件大小:
1.11 MB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1