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论文《铜含量对脉冲偏压电弧离子镀Zr-Cu-N薄膜结构与性能的影响》探讨了铜元素在Zr-Cu-N薄膜中的作用。通过调节铜的含量，研究其对薄膜微观结构、硬度及摩擦学性能的影响。结果表明，适量铜的加入可优化薄膜性能，提高其综合机械性能和耐磨性。该研究为制备高性能氮化物薄膜提供了理论依据和技术支持。 ","role":"assistant文档为pdf格式，0.22MB，总共4页。
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- 铜含量对脉冲偏压电弧离子镀Zr-Cu-N薄膜结构与性能的影响 - 第四届高能束加工技术国际学术会议.pdf ...
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