本文介绍了在蓝宝石衬底上制备的高性能InAlN/GaN异质结及场效应晶体管的研究成果。通过优化材料生长工艺,提升了异质结的界面质量和电子迁移率,从而改善了器件性能。研究结果表明,所制备的晶体管具有较低的漏电流和较高的跨导,展现出良好的应用前景。
举报