论文《直流磁控溅射ITO薄膜特性研究》探讨了采用直流磁控溅射法制备氧化铟锡（ITO）薄膜的工艺及性能。研究分析了不同工艺参数对薄膜电阻率、透光率和晶体结构的影响，结果表明，优化溅射功率和氧分压可显著提升薄膜的光电性能。该研究为ITO薄膜在平板显示领域的应用提供了理论依据和技术支持。
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