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论文《多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN_SiO2复合装饰薄膜的研究》探讨了两种镀膜技术的结合应用。通过多弧离子镀制备TiN层，再利用磁控溅射沉积SiO2层，形成复合装饰薄膜。研究分析了工艺参数对薄膜性能的影响，结果表明该复合结构具有良好的硬度和光学性能，适用于装饰性涂层领域。 文档为pdf格式，0.59MB，总共3页。
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- 多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN_SiO2复合装饰薄膜的研究 - 第九届全国转化膜及表面精饰学术年会.pdf ...
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