双闪耀光栅刻蚀技术研究 - 第10届全国光电技术学术交流会.pdf

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2025-12-14 16:08 | 查看全部 阅读模式

论文《双闪耀光栅刻蚀技术研究》发表于第10届全国光电技术学术交流会,探讨了双闪耀光栅的刻蚀工艺及其性能优化。文章介绍了基于微纳加工技术的光栅制造方法,分析了刻蚀参数对光栅结构和光学性能的影响,提出了提高光栅效率和稳定性的关键技术路径,为高精度光栅器件的应用提供了理论支持和技术参考。

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双闪耀光栅刻蚀技术研究 - 第10届全国光电技术学术交流会
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