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论文《TFT阵列基板Cu导线的H202及N0n-H202蚀刻液特性研究》探讨了用于TFT阵列基板铜导线蚀刻的两种溶液特性。研究对比分析了过氧化氢（H202）与非过氧化氢（N0n-H202）蚀刻液在蚀刻速率、表面形貌及均匀性方面的表现。结果表明，不同蚀刻液对铜导线的蚀刻效果存在显著差异，为优化TFT制造工艺提供了重要参考。 文档为pdf格式，0.59MB，总共6页。
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- TFT阵列基板Cu导线的H202及N0n-H202蚀刻液特性研究 - 2012中国平板显示学术会议.pdf ...
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