PECVD基板支撑梢对TFT界面氮化硅和氢化非晶硅成膜特性的影响 - 2012中国平板显示学术会议.pdf

该论文研究了PECVD基板支撑梢对TFT界面氮化硅和氢化非晶硅成膜特性的影响。通过实验分析发现，基板支撑梢的结构和材料对薄膜的均匀性和致密性有显著影响。研究结果表明，优化支撑梢设计可改善成膜质量，提高TFT器件性能。该成果为提高平板显示器件的可靠性提供了理论依据和技术支持。

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2025-12-14 14:51 上传 PECVD基板支撑梢对TFT界面氮化硅和氢化非晶硅成膜特性的影响 - 2012中国平板显示学术会议.pdf

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