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论文《GD11-011高曝光深度的表面等离子体激元辅助纳米光刻成像模拟》介绍了基于表面等离子体激元技术的纳米光刻成像模拟研究。该研究通过优化结构设计和材料选择，提升了光刻系统的曝光深度与分辨率，为高精度纳米制造提供了理论支持和技术参考。文章在第10届全国光电技术学术交流会上发表，对推动纳米光刻技术的发展具有重要意义。 文档为pdf格式，0.06MB，总共1页。
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