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论文《高效的六芳基双咪唑光引发剂及其在光致抗蚀干膜中的应用》介绍了新型光引发剂六芳基双咪唑的合成与性能。该引发剂具有高光敏性和良好的热稳定性，适用于光致抗蚀干膜材料。研究显示，其在紫外光照射下能有效引发聚合反应，提高干膜的分辨率和显影性能。该成果为光刻技术提供了新的材料支持，对电子制造领域具有重要意义。 文档为pdf格式，0.35MB，总共6页。
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- 高效的六芳基双咪唑光引发剂及其在光致抗蚀干膜中的应用 - 2011第十二届中国辐射固化年会.pdf ...
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