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论文《脉冲直流反应磁控溅射制备氧化铌薄膜的性质》介绍了通过脉冲直流反应磁控溅射技术制备氧化铌薄膜的方法，并研究了其物理性质。该研究在长三角地区科技论坛激光分论坛暨上海市激光学会2011年学术年会上发表，探讨了工艺参数对薄膜性能的影响，为氧化铌薄膜在光电子器件中的应用提供了理论依据和技术支持。 文档为pdf格式，0.37MB，总共3页。
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- 脉冲直流反应磁控溅射制备氧化铌薄膜的性质 - 长三角地区科技论坛激光分论坛暨上海市激光学会2011年学术年 ...
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