电子束蒸发技术制备ITO薄膜表面形貌研究 - 第八届中国国际半导体照明论坛.pdf

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论文《电子束蒸发技术制备ITO薄膜表面形貌研究》发表于第八届中国国际半导体照明论坛,主要探讨了采用电子束蒸发技术制备氧化铟锡(ITO)薄膜的工艺及其对薄膜表面形貌的影响。研究通过分析不同工艺参数对ITO薄膜微观结构的影响,提出了优化制备条件的方法,以提高薄膜的均匀性和致密性,为高性能透明导电薄膜的应用提供了理论依据和技术支持。

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电子束蒸发技术制备ITO薄膜表面形貌研究 - 第八届中国国际半导体照明论坛
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