掩模传输预对准光学系统及其关键问题 - 第七届全国技术过程故障诊断与安全性学术会议.pdf

论文《掩模传输预对准光学系统及其关键问题》探讨了光刻工艺中掩模传输与预对准的关键技术。文章分析了光学系统的结构设计、误差来源及补偿方法，针对高精度对准需求提出了优化方案。研究对于提高光刻设备的对准精度和生产效率具有重要意义，为相关领域的技术发展提供了理论支持。

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2025-12-14 05:52 上传 掩模传输预对准光学系统及其关键问题 - 第七届全国技术过程故障诊断与安全性学术会议.pdf

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