论文《后退火处理对ZnO_B(BZO)薄膜特性的改善》探讨了通过后退火处理提升ZnO_B薄膜性能的方法。研究结果表明,适当的退火工艺可以有效改善薄膜的结晶质量、表面形貌及光学特性,从而提高其在光电器件中的应用潜力。该研究为优化ZnO_B薄膜的制备工艺提供了理论依据和技术支持。
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