一种新颖的正型化学增幅型i-线分子玻璃抗蚀剂 - 中国感光学会成立30周年庆祝大会暨2011年学术年会.pdf

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该论文介绍了新型正型化学增幅型i-线分子玻璃抗蚀剂的研究成果。该抗蚀剂具有良好的光敏性能和热稳定性,适用于高精度微电子制造领域。研究通过优化分子结构,提高了抗蚀剂的分辨率和刻蚀选择性,为集成电路制造提供了新的材料支持。论文在2011年中国感光学会学术年会上发表,对我国光刻技术的发展具有重要意义。

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一种新颖的正型化学增幅型i-线分子玻璃抗蚀剂 - 中国感光学会成立30周年庆祝大会暨2011年学术年会
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