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论文《p-Si在氢氟酸溶液中的电化学抛光 - 第十次全国热处理大会》探讨了p型硅在氢氟酸溶液中的电化学抛光过程。文章分析了电化学参数对抛光效果的影响，如电流密度、电解液浓度及温度等。研究结果表明，通过优化这些参数可以有效提高硅表面的平整度和光泽度。该方法为半导体材料的精密加工提供了新的思路，具有重要的理论和应用价值。论文还对比了不同工艺条件下的抛光效果，为后续研究和工业应用提供了参考依据。 文档为pdf格式，0.24MB，总共3页。
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- p-Si在氢氟酸溶液中的电化学抛光 - 第十次全国热处理大会.pdf
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