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[冶金] GBT 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

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硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
TestmethodformeasuringsurfacemetalcontaminationonsiliconwafersbytotalreflectionX-rayfluorescencespectroscopy

摘要:本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法。本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。本方法适用于测量面密度在(10～10)atoms/cm的范围的元素。本方法是非破坏性的。

标准编号：GB/T24578-2009
标准类型：
发布单位：CN-GB
发布日期：2009年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2010年1月1日
关键词：半导体,硅,晶体,表面性质,荧光测定法,SEMICONDUCTORS,SILICON,SILICONE,CRYSTALS,SURFACEPROPERTIES,SURFACEPROPERTIES,FLUORIMETRY

GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法.pdf

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全反射, 沾污, 硅片, 光谱, 荧光

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