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NiP合金和NiCoP合金电沉积工艺优化及其性能

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admin 发表于 2024-12-14 14:29 | 查看全部 阅读模式

文档名:NiP合金和NiCoP合金电沉积工艺优化及其性能
摘要:通过正交试验对紫铜表面电沉积Ni-P合金和Ni-Co-P合金的工艺条件进行优化,并采用扫描电镜、X射线衍射和电化学测试方法研究了所得镀层的表面形貌、晶体结构和耐蚀性.综合考虑镀层厚度和耐蚀性,电沉积Ni-P合金的较优条件为:pH1.5,温度40℃,电流密度2.5A/dm2,时间60min;电沉积Ni-Co-P合金的较优条件为:pH2,温度60℃,电流密度4.5A/dm2,时间20min.与Ni-P合金镀层相比,Ni-Co-P合金镀层更细致,表面更平整,耐蚀性更好.

作者:杨悦澜   何湘柱   袁惠彬   吴斌杰   谢家贺   邹凯彦   曾树勋 Author:YANGYuelan   HEXiangzhu   YUANHuibin   WUBinjie   XIEJiahe   ZOUKaiyan   ZENGShuxun
作者单位:广东工业大学轻工化工学院,广东广州510006惠州市深华化工有限公司,广东惠州516000广州市佳必达化工原料有限公司,广东广州510000
刊名:电镀与涂饰 ISTICPKU
Journal:Electroplating&Finishing
年,卷(期):2023, 42(13)
分类号:TQ153.2
关键词:镍-磷合金  镍-钴-磷合金  电沉积  厚度  耐蚀性  组织结构  
Keywords:nickel-phosphorusalloy  nickel-cobalt-phosphorusalloy  electrodeposition  thickness  corrosionresistance  microstructure  
机标分类号:TG174.44TQ153.2O614.1
在线出版日期:2023年8月8日
基金项目:Ni-P合金和Ni-Co-P合金电沉积工艺优化及其性能[
期刊论文]  电镀与涂饰--2023, 42(13)杨悦澜  何湘柱  袁惠彬  吴斌杰  谢家贺  邹凯彦  曾树勋通过正交试验对紫铜表面电沉积Ni-P合金和Ni-Co-P合金的工艺条件进行优化,并采用扫描电镜、X射线衍射和电化学测试方法研究了所得镀层的表面形貌、晶体结构和耐蚀性.综合考虑镀层厚度和耐蚀性,电沉积Ni-P合金的较优条件为...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
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Ni-P合金和Ni-Co-P合金电沉积工艺优化及其性能.pdf
2024-12-14 14:29 上传
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