文档名：超疏水金属基膜的制备及其在气隙式膜蒸馏中的应用
摘要：通过铜电沉积+原位氧化+化学修饰的方法在2000目不锈钢网基体上制备了超疏水不锈钢基膜(SH-SSM),并应用于气隙式膜蒸馏(AGMD).采用扫描电镜、接触角测量仪、X射线衍射仪和X射线能谱仪对所制备的疏水表面进行表征.探究了最佳的化学修饰条件及所制备的SH-SSM在气隙式膜蒸馏中的运行情况.结果表明,当正十二硫醇用量为2μL/cm2时能够制备出水接触角为164°、滚动角为1.7°的超疏水表面.SH-SSM在气隙式膜蒸馏组件处理30g/LNaCl溶液的过程中显示出良好的稳定性和耐用性,运行10h内的膜通量维持在4.5kg/(m2·h)左右,盐的截留率大于98.5%.
作者：唐浩铭 孙国富 潘高峰 徐静莉 Author：TANGHaoming SUNGuofu PANGaofeng XUJingli
作者单位：许昌学院化工与材料学院,河南许昌461000;吉林化工学院石油化工学院,吉林吉林132022许昌学院化工与材料学院,河南许昌461000吉林化工学院石油化工学院,吉林吉林132022
刊名：电镀与涂饰 ISTICPKU
Journal：Electroplating&Finishing
年，卷(期)：2023, 42(14)
分类号：TQ028.8TB333
关键词：气隙式膜蒸馏 不锈钢网 超疏水表面 铜电沉积 原位氧化 化学修饰 膜通量
Keywords：air-gapmembranedistillation stainlesssteelmesh superhydrophobicsurface copperelectrodeposition in-situoxidation chemicalmodification membraneflux
机标分类号：TQ028.8TB323TG174.44
在线出版日期：2023年8月14日
基金项目：超疏水金属基膜的制备及其在气隙式膜蒸馏中的应用[
期刊论文] 电镀与涂饰--2023, 42(14)唐浩铭 孙国富 潘高峰 徐静莉通过铜电沉积+原位氧化+化学修饰的方法在2000目不锈钢网基体上制备了超疏水不锈钢基膜(SH-SSM),并应用于气隙式膜蒸馏(AGMD).采用扫描电镜、接触角测量仪、X射线衍射仪和X射线能谱仪对所制备的疏水表面进行表征.探究了最...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
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