文档名：红外抗反射微纳结构刻蚀制备研究进展
摘要："蛾眼效应"指光波折射率因蛾眼表面微纳结构在深度方向呈连续性变化,使大部分光被吸收,只有极少被反射的现象.受"蛾眼效应"启发,在材料表面制备微纳结构使其具有独特抗反射性能受到广泛关注,在太阳能电池、光电探测器、光电二极管和军事隐身等领域有广阔应用前景.本文梳理不同微纳结构抗反射原理,并对红外抗反射结构的不同刻蚀制备方法及其应用进行综述,总结了化学刻蚀、反应离子刻蚀、超快激光刻蚀等红外抗反射结构制备方法的特点以及对抗反射性能的影响,阐述红外抗反射结构在红外探测、红外热成像和隐身等方面的应用,并对抗反射结构制备方法研究方向与未来前景进行展望.
Abstract：The'moth-eyeeffect'referstothephenomenonthattherefractiveindexofthelightwavechangescontinuouslyduetothemicro-nanostruc-turesofthemoth-eyesurfaceinthedepthdirection,sothatmostofthelightisabsorbedandonlyrarelyreflected.Inspiredbythe'moth-eyeeffect',thepreparationofmicro-nanostructuredsurfacesonmaterialshasattractedwideattentionowingtoitsuniqueanti-reflectionproperties.Ithasbroadapplicationprospectsinsolarcells,photodetectors,photodiodes,andmilitarystealth.Inthispaper,theantireflectionprinciplesofdif-ferentmicro-nanostructuresaresorted,andthepreparationmethodsandapplicationsofdifferentetchingofinfraredantireflectivestructuresarereviewed.Thecharacteristicsofinfraredantireflectionstructurepreparationmethods,suchaschemicaletching,reactiveionetching,andultrafastlaseretching,andtheinfluenceoftheantireflectionperformancearesummarized.Applicationsofinfraredantireflectionstructuresininfraredde-tection,infraredthermalimagingandstealtharedescribed.Theresearchdirectionandfutureprospectsofthepreparationmethodsforanti-reflec-tionstructuresarediscussed.
作者：李雪伍 王红星 郭伟玲 邢志国 黄艳斐 王海斗 Author：LIXuewu WANGHongxing GUOWeiling XINGZhiguo HUANGYanfei WANGHaidou
作者单位：西安科技大学机械工程学院,西安710054西安科技大学机械工程学院,西安710054;中国人民解放军陆军装甲兵学院装备再制造技术国防科技重点实验室,北京100072中国人民解放军陆军装甲兵学院装备再制造技术国防科技重点实验室,北京100072中国人民解放军陆军装甲兵学院机械产品再制造国家工程研究中心,北京100072
刊名：材料导报
Journal：MaterialsReports
年，卷(期)：2024, 38(6)
分类号：TG141TG177TG178
关键词：抗反射结构 红外 微纳结构 刻蚀制备
Keywords：anti-reflectivestructure infrared micro-nanostructure etchingmethod
机标分类号：O485TN305TN219
在线出版日期：2024年5月8日
基金项目：红外抗反射微纳结构刻蚀制备研究进展[
期刊论文] 材料导报--2024, 38(6)李雪伍 王红星 郭伟玲 邢志国 黄艳斐 王海斗"蛾眼效应"指光波折射率因蛾眼表面微纳结构在深度方向呈连续性变化,使大部分光被吸收,只有极少被反射的现象.受"蛾眼效应"启发,在材料表面制备微纳结构使其具有独特抗反射性能受到广泛关注,在太阳能电池、光电探测器、光...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
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