柔性PET基底上带消影层ITO薄膜的设计和磁控溅射制备

文档名：柔性PET基底上带消影层ITO薄膜的设计和磁控溅射制备
摘要：针对ITO(氧化铟锡)薄膜所制作的触控模组存在明显蚀刻痕迹而严重限制其下游广泛应用的问题,首先根据薄膜光学理论计算得到带消影层ITO薄膜(Nb2O5/SiO2/ITO)在5个特征波长处达到最佳消影效果的膜层厚度,再用TFCLAC光学软件验证该带消影层ITO薄膜在500～780nm可见波段的光学消影效果,最后通过卷对卷磁控溅射法制造该带消影层的ITO薄膜,继而制成触控模组,以验证其蚀刻痕迹的改善效果.结果表明:最佳带消影层ITO薄膜中Nb2O5、SiO2和ITO层的厚度分别为10、48和42nm.该带消影层ITO薄膜在蚀刻前后的反射率差在1％～2％之间,色差较小,平均透过率达到85.64％,方阻为84.70Ω.该带消影层薄膜制作的触控模组上几乎看不见蚀刻痕迹,可满足严苛的视觉要求.

作者：闫国栋  雷国伟  王鑫鑫  高淑珍  解江涛  隋曦  白杰Author：YANGuodong  LEIGuowei  WANGXinxin  GAOShuzhen  XIEJiangtao  SUIXi  BAIJie
作者单位：陕西煤业化工技术研究院有限责任公司,陕西西安710065
刊名：电镀与涂饰 ISTICPKU
Journal：Electroplating&Finishing
年，卷(期)：2023, 42(22)
分类号：TB43
关键词：氧化铟锡薄膜  磁控溅射  蚀刻痕  消影层  触控模组  反射率  色差  
Keywords：indiumtinoxidefilm  magnetronsputtering  etchingmark  index-matchedlayer  touchpanelsensor  reflectance  colordifference  
机标分类号：
在线出版日期：2024年1月3日
基金项目：柔性PET基底上带消影层ITO薄膜的设计和磁控溅射制备[
期刊论文]  电镀与涂饰--2023, 42(22)闫国栋  雷国伟  王鑫鑫  高淑珍  解江涛  隋曦  白杰针对ITO(氧化铟锡)薄膜所制作的触控模组存在明显蚀刻痕迹而严重限制其下游广泛应用的问题,首先根据薄膜光学理论计算得到带消影层ITO薄膜(Nb2O5/SiO2/ITO)在5个特征波长处达到最佳消影效果的膜层厚度,再用TFCLAC光学软...参考文献和引证文献
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2024-12-14 03:18 上传 柔性PET基底上带消影层ITO薄膜的设计和磁控溅射制备.pdf

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