文档名：射频磁控溅射制备二氧化锡薄膜的气敏特性
摘要：采用射频(RF)磁控溅射法在P型硅衬底上制备了具有良好电学特性和气敏特性的二氧化锡(SnO2)纳米薄膜.在溅射气压分别为0.1,1.0,2.5Pa的条件下,制备了不同表面形貌的SnO2薄膜,详细分析了溅射气压对SnO2薄膜表面生长、PN结的伏安特性和气敏特性的影响.实验结果表明:在溅射气压为2.5Pa时,PN结结晶质量最好;在室温条件下,溅射气压为2.5Pa时,SnO2纳米薄膜在16×10-3的乙醇环境中的电流灵敏度可达246％.
作者：刘文强 吴鹏举 王瑗瑗 陈庭煜 马鸿雁 王国东 Author：LIUWenqiang WUPengju WANGYuanyuan CHENTingyu MAHongyan WANGGuodong
作者单位：河南理工大学物理与电子信息学院,河南焦作454000河南理工大学安全科学与工程学院,河南焦作454000
刊名：传感器与微系统 ISTICPKU
Journal：TransducerandMicrosystemTechnologies
年，卷(期)：2023, 42(3)
分类号：TP212TN305
关键词：射频磁控溅射 二氧化锡薄膜 PN结 电学性能
机标分类号：O484.1TN304.055TB383
在线出版日期：2023年3月27日
基金项目：河南省高校科技创新团队支持计划资助项目，河南省高校基本科研业务费专项资金资助项目射频磁控溅射制备二氧化锡薄膜的气敏特性[
期刊论文] 传感器与微系统--2023, 42(3)刘文强 吴鹏举 王瑗瑗 陈庭煜 马鸿雁 王国东采用射频(RF)磁控溅射法在P型硅衬底上制备了具有良好电学特性和气敏特性的二氧化锡(SnO2)纳米薄膜.在溅射气压分别为0.1,1.0,2.5Pa的条件下,制备了不同表面形貌的SnO2薄膜,详细分析了溅射气压对SnO2薄膜表面生长、PN结...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
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