文档名：兆声功率密度对同轴兆声辅助喷射电沉积镍的影响
摘要：[目的]金属微器件在电沉积过程中往往会产生较大的残余应力,对微器件的尺寸精度、力学性能和良率产生不利影响.[方法]为降低镀层的残余应力,在喷射电沉积镍过程中施加同轴兆声辅助.研究了兆声功率密度对Ni镀层形貌、表面粗糙度、显微硬度和残余应力的影响.[结果]施加同轴兆声辅助后,所得Ni镀层的宏观和微观形貌都有所变差,表面粗糙度略微增大,显微硬度变化不大,但残余应力显著降低.当兆声功率密度为10W/cm2时,Ni镀层的残余应力最低,比无兆声辅助时所得Ni镀层低了37.75％.[结论]在电沉积过程中施加兆声辅助能够有效降低镀层的残余应力.
作者：翟科 周丰 梁勇康 马仕豪 李腾楠 杜立群 Author：ZHAIKe ZHOUFeng LIANGYongkang MAShihao LITengnan DULiqun
作者单位：河北大学质量技术监督学院,河北保定071002大连理工大学高性能精密制造国家重点实验室,辽宁大连116024
刊名：电镀与涂饰
Journal：Electroplating&Finishing
年，卷(期)：2024, 43(1)
分类号：TQ153.1+2
关键词：微器件 喷射电沉积 镍 残余应力 兆声辅助 功率密度
Keywords：microdevice jetelectrodeposition nickel residualstress megasonicagitationassistance powerdensity
机标分类号：TG174.44TG404TQ153.2
在线出版日期：2024年3月1日
基金项目：国家重点研发计划，河北省自然科学基金兆声功率密度对同轴兆声辅助喷射电沉积镍的影响[
期刊论文] 电镀与涂饰--2024, 43(1)翟科 周丰 梁勇康 马仕豪 李腾楠 杜立群[目的]金属微器件在电沉积过程中往往会产生较大的残余应力,对微器件的尺寸精度、力学性能和良率产生不利影响.[方法]为降低镀层的残余应力,在喷射电沉积镍过程中施加同轴兆声辅助.研究了兆声功率密度对Ni镀层形貌、表面粗...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
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