原子层刻蚀及原子层沉积技术在半导体器件表面钝化中的应用

文档名：原子层刻蚀及原子层沉积技术在半导体器件表面钝化中的应用
近年来原子层刻蚀(atomiclayeretching,ALE)及原子层沉积(atomiclayerdeposition,ALD)技术的发展,使得半导体材料和器件的新功能和新应用成为可能.本文报告了利用ALE/ALD和高真空技术的结合对二类超晶格红外探测器进行表面钝化的尝试,在ALE逐层清理过的器件表面用ALD方法原位沉积钝化层,获得了优异钝化效果.
作者：陈意桥陈超
作者单位：苏州焜原光电有限公司,江苏苏州215200
母体文献：粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会论文集
会议名称：粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会  
会议时间：2017年12月1日
会议地点：广东惠州
主办单位：广东省科协,广东省真空学会
语种：chi
分类号：TN3O65
关键词：红外探测器  表面钝化  原子层刻蚀  原子层沉积  高真空技术
在线出版日期：2021年3月22日
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