文档名：新型中压等离子体技术及其在薄膜生长中的应用
同时实现高质量薄膜材料的高速、低温生长一直是工业界和学术界所追求的目标之一.高速生长的实现是降低生产成本的基础,而低温生长的实现能够减少对基底选择上的约束.然而,高速和低温往往是相矛盾的.中压等离子体技术结合了低压等离子体和高压等离子体的优点,非常适合高质量薄膜的高速、低温生长.本文简单介绍了中压等离子体技术的特点以及应用中压等离子体技术在高速、低温外延生长单晶硅薄膜以及在其他不同结构薄膜制备方面的研究成果.
作者：邬苏东芦子玉张盛叶继春
作者单位：中科院宁波材料技术与工程研究所,浙江省宁波市镇海区中官西路1219号
母体文献：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会论文集
会议名称：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会
会议时间：2017年10月1日
会议地点：上海
主办单位：上海市真空学会,江苏省真空学会,安徽省真空学会,浙江省真空学会
语种：chi
分类号：TL6O53
关键词：单晶硅薄膜 中压等离子体 外延生长
在线出版日期：2021年3月22日
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