文档名：氧化锡基低辐射玻璃辐射率改善的途径分析
掺杂F的氧化锡薄膜(FTO)是一种透明导电的氧化物薄膜,也是在线低辐射玻璃(Low-E)的功能膜,如何进一步降低其辐射率是一个重要课题.本文分析了辐射率的影响因素和降低辐射率可以采取的措施.分析表明,表面电阻是最主要影响因素,为了使辐射率ε＜0.1,必须使方块电阻＜8.1Ω/□;通过优化掺杂、改善膜系匹配、光辅助CVD等方法进一步提高结晶质量、表面平整度和堆积密度,可以进一步降低辐射率,优化在线Low-E玻璃的性能.
作者：刘起英
作者单位：中国玻璃控股有限公司北京100029
母体文献：2017年中国玻璃行业年会暨技术研讨会论文集
会议名称：2017年中国玻璃行业年会暨技术研讨会
会议时间：2017年4月18日
会议地点：杭州
主办单位：中国建筑玻璃与工业玻璃协会
语种：chi
分类号：TG1O48
关键词：低辐射玻璃 氧化锡薄膜 辐射率 表面电阻 氟掺杂 膜系匹配
在线出版日期：2020年7月28日
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