文档名：微秒脉冲激光诱导黑硅表面微结构的研究
分别在SF6和空气环境下,使用波长1064nm的半导体端面泵浦微秒脉冲激光器作为光源扫描辐照单晶硅表面,制备出"黑硅"材料.扫描电子显微镜的测量结果显示在SFa氛围中得到的微结构与空气中的相比,纵横比更大,锥形结构更加完整,表面更光滑,表明背景气体对于表面微结构的形成起着重要作用.通过对比分析不同数量激光脉冲辐照后的硅表面微结构,研究微秒激光辐照下硅表面微结构的演变过程,主要涉及激光诱导周期性表面结构、激光辅助化学刻蚀和再沉积等机制.
作者：郑小婵王德苗
作者单位：浙江大学信电系
母体文献：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会论文集
会议名称：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会
会议时间：2017年10月1日
会议地点：上海
主办单位：上海市真空学会,江苏省真空学会,安徽省真空学会,浙江省真空学会
语种：chi
分类号：TN7TL5
关键词：黑硅 微秒激光 表面微结构 化学刻蚀 再沉积机制
在线出版日期：2021年3月22日
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