文档名：酸性蚀刻液中2巯基苯并噻唑的缓蚀性研究
将2-巯基苯并噻唑加入酸性氯化铜蚀刻液,研究其与2-苯氧基乙醇协同缓蚀的效果,并通过电化学方法表征铜蚀刻过程的电流变化.实验结果表明,2-巯基苯并噻唑吸附规律符合朗格缪尔吸附等温式,能够增大传递电阻并减小腐蚀电流,2-巯基苯并噻唑与2-苯氧基乙醇的相互协同作用可促进铜表面吸附效果,并进一步增大传递电阻减小腐蚀电流.加入润湿剂2-苯氧基乙醇能够明显减小该蚀刻溶液在铜面的接触角.应用该酸性氯化铜蚀刻液,铜线路的蚀刻因子增大到2.52.
作者：李高升 陈苑明 何为 艾克华 李清华 王青云 李长生
作者单位：电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都610054四川英创力电子科技股份有限公司,四川遂宁629000四川省华兴宇电子科技有限公司,四川什邡618400
母体文献：2018中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术/信息论坛论文集
会议名称：2018中日电子电路秋季大会暨秋季国际PCB技术/信息论坛
会议时间：2018年11月1日
会议地点：东莞
主办单位：中国印制电路行业协会
语种：chi
分类号：
关键词：印制电路板 酸性蚀刻液 2-巯基苯并噻唑 缓蚀性
在线出版日期：2021年9月26日
基金项目：
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