文档名:气相法白炭黑表面羟基的漫反射红外研究
采用漫反射红外光谱法(DRIFT)研究了气相法白炭黑表面羟基的分布情况,并考察了热处理对其结构的影响.结果表明:气相法白炭黑表面羟基主要以孤立和邻位羟基为主,在漫反射红外光谱中的位置分别为3743cm-1处和3684cm-1处,随着温度的升高谱峰强度增加,邻位羟基经800℃热处理后谱峰消失.
作者:吴丹季建英钟连发佘慧玲
作者单位:浙江新安化工集团有限公司浙江建德311600
母体文献:2017年全国无机硅化物行业年会暨创新发展研讨会论文集
会议名称:2017年全国无机硅化物行业年会暨创新发展研讨会
会议时间:2017年12月1日
会议地点:福建邵武
主办单位:中国无机盐工业协会
语种:chi
分类号:
关键词:白炭黑 气相法 表面羟基 分布规律 漫反射红外光谱法
在线出版日期:2020年10月26日
基金项目:
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