文档名：硼掺杂金刚石膜的制备及电化学性能研究
采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以氧化硼-乙醇溶液作为硼源,成功制备出硼掺杂金刚石膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(LaserRamanspectroscopy)、电化学工作站对其表面形貌、晶体结构、薄膜质量、电化学性能进行了系统的研究.实验结果表明:随着硼元素含量的增加,金刚石膜的晶体颗粒尺寸先减小后增大,电势窗口大小由3.1V降至2.6V,阳极电流密度由0.0227mA/·cm-1降至0.0119mA/·cm-1,但对背景电流及电化学可逆性几乎不影响.
作者：王梁 江彩义 郭胜惠 高冀芸 胡途 杨黎 彭金辉 张利波
作者单位：超硬材料先进制备技术国际联合研究中心,昆明理工大学,昆明,650093;非常规冶金教育部重点实验室,昆明理工大学,昆明,650093超硬材料先进制备技术国际联合研究中心,昆明理工大学,昆明,650093;微波能工程应用与装备技术国家地方联合工程实验室,昆明理工大学,昆明,650093;非常规冶金教育部重点实验室,昆明理工大学,昆明,650093;昆明理工大学冶金与能源工程学院,昆明,650093云南民族大学化学与环境学院,云南民族大学,昆明,650031微波能工程应用与装备技术国家地方联合工程实验室,昆明理工大学,昆明,650093;非常规冶金教育部重点实验室,昆明理工大学,昆明,650093
母体文献：第二十届中国超硬材料技术发展论坛论文集
会议名称：第二十届中国超硬材料技术发展论坛
会议时间：2016年11月1日
会议地点：贵阳
主办单位：中国机床工具工业协会
语种：chi
分类号：O6S66
关键词：硼掺杂金刚石膜 微波等离子体化学气相沉积 表面形貌 晶体结构 薄膜质量 电化学性能
在线出版日期：2020年5月31日
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