文档名：聚对羟基苯乙烯羟甲基化物及其成像应用
将聚对羟基苯乙烯(PHS)与甲醛在碱或酸催化下进行反应得到羟甲基化产物,此羟甲基很容易在酸催化下发生进一步的脱水缩合反应.因此可以和光产酸剂一起组成负性化学增幅型光刻胶,也可以和适当的染料一起组成光刻加工用的抗反射涂层.利用傅里叶红外光谱(FT-IR)、核磁共振氢谱(1HNMR)、热重分析(TGA)、示差扫描量热发(DSC)等表征了聚合物的结构和性能,并对其成像性能进行了初步评价.结果表明:该聚合物具有良好的热稳定性,比较高的玻璃化转变温度,曝光成像后可以获得好的图形,并可以和适当的染料、产酸剂一起组成光刻加工用的抗反射涂层.
作者：严臣凤王力元
作者单位：北京师范大学化学学院,北京100875
母体文献：中国感光学会2018年学术年会暨第九届六次理事会论文集
会议名称：中国感光学会2018年学术年会暨第九届六次理事会
会议时间：2018年11月1日
会议地点：海口
主办单位：中国感光学会
语种：chi
分类号：O6TQ3
关键词：负性化学增幅型光刻胶 聚对羟基苯乙烯羟甲基化物 化学合成 成像性能 热稳定性 玻璃化转变 抗反射涂层
在线出版日期：2021年11月24日
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