厚薄膜混合氮化铝多层基板技术研究

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admin 发表于 2024-12-10 12:09 | 查看全部 阅读模式

文档名:厚薄膜混合氮化铝多层基板技术研究
随着电子器件向着高密度高功率的方向发展,对于基板的散热与布线密度要求越来越高.为了适应这一趋势.研究了厚薄膜混合氮化铝基板技术,该技术结合了氮化铝高热导率、厚膜电路多层布线、薄膜电路精细布线的优势,能够满足未来高密度高功率器件产品需求.通过研究解决了腔体保护、氮化铝一钨金属共面抛光等工艺技术问题,实现了厚膜工艺与薄膜工艺融合。
作者:陈寰贝梁秋实刘玉根王子良
作者单位:中国电子科技集团公司第五十五研究所,江苏南京210016
母体文献:第十五届全国电子陶瓷、陶瓷——金属封接会议暨2015年真空电子与专用金属材料分会和电子陶瓷年会论文集
会议名称:第十五届全国电子陶瓷、陶瓷——金属封接会议暨2015年真空电子与专用金属材料分会和电子陶瓷年会  
会议时间:2015年9月13日
会议地点:郑州
主办单位:中国真空电子行业协会
语种:chi
分类号:
关键词:氮化铝  厚薄膜  多层基板技术  热导率  布线密度
在线出版日期:2018年1月31日
基金项目:
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