文档名：改性碳化硅反射镜磁流变抛光表面粗糙度研究
对于碳化硅反射镜的硅改性层,实验室自研的磁流变抛光液在抛光过程中,存在一种不同于传统抛光技术的表面缺陷,该表面疵病表现为细长划痕,划痕深度从较深逐渐变浅,直至消失,即“彗尾”现象.“彗尾”缺陷严重影响碳化硅反射镜的表面粗糙度,使得修形精度很高的磁流变抛光技术无法在碳化硅反射镜改性层上有效利用.
作者：杜航李圣怡宋辞
作者单位：国防科技大学机电工程与自动化学院,湖南长沙410073;超精密加工技术湖南省重点实验室,湖南长沙410073
母体文献：第十九届中国磨粒技术学术会议论文集
会议名称：第十九届中国磨粒技术学术会议
会议时间：2017年8月1日
会议地点：哈尔滨
主办单位：中国机械工程学会
语种：chi
分类号：TN2
关键词：碳化硅 改性层 磁流变抛光 表面粗糙度
在线出版日期：2021年12月15日
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