衬底温度与冷却方式对热丝CVD法制备非晶碳膜结构与光电性能的影响

文档名：衬底温度与冷却方式对热丝CVD法制备非晶碳膜结构与光电性能的影响
本文采用热丝化学气相沉积的方法,以乙炔和氢气作为气态源,在石英衬底的表面制备非晶碳膜,研究了不同衬底温度(450～850℃)和冷却方式对于非晶碳膜结构与光电性能的影响.结果表明,随着衬底温度的升高,非晶碳膜的结构逐渐由非晶态向纳米石墨态再向石墨态发生转变,且该转变有助于非晶碳膜光电性能的提升.随后,在衬底温度850℃条件下制备了非晶碳膜,研究了氢气、氩气及炉冷三种冷却方式对非晶碳膜结构及光电性能的影响,并提出厚度变化模型对三种冷却方式机制进行了解释.结果表明,相比于其它冷却方式,采用氢气冷却能进一步提高非晶碳膜的光电性能.
作者：翟子豪沈鸿烈
作者单位：雨京航空航天大学材料科学与技术学院,江苏省能量转换材料与技术重点实验室,南京210016
母体文献：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会论文集
会议名称：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会  
会议时间：2017年10月1日
会议地点：上海
主办单位：上海市真空学会,江苏省真空学会,安徽省真空学会,浙江省真空学会
语种：chi
分类号：TG4TF1
关键词：非晶碳膜  热丝化学气相沉积  衬底温度  冷却方式  光电性能
在线出版日期：2021年3月22日
基金项目：
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