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对高速覆铜板技术开发的探讨

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admin 发表于 2024-12-9 20:13 | 查看全部 阅读模式

文档名:对高速覆铜板技术开发的探讨
针对高速覆铜板开发所要解决的开发方向、产品性能定位、技术路线及原材料的选择、应用,本文提出了当前在全球高速覆铜板制造业,在围绕着高速覆铜板降低插损所表现出的技术发展的新特点,并重点讨论了不同传输损耗等级的高速覆铜板的Df值与其PCB插入损耗特性的对应关系.
作者:祝大同
作者单位:中电材协覆铜板材料分会
母体文献:第二十届中国覆铜板技术研讨会论文集
会议名称:第二十届中国覆铜板技术研讨会  
会议时间:2019年10月1日
会议地点:苏州
主办单位:中国电子材料行业协会,中国电子电路行业协会
语种:chi
分类号:TU5TN0
关键词:高速覆铜板  基板材料  印制电路板  插入损耗
在线出版日期:2020年8月24日
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