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[数理和化学] 相控阵聚焦方法对缺陷成像效果的影响

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admin 发表于 2024-12-1 21:11 | 查看全部 阅读模式

相控阵聚焦方法对缺陷成像效果的影响.pdf
超声相控阵传统的扫查方式是在被检测区域中一点进行聚焦,因此缺陷成像会受到聚焦位置的影响.而全聚焦实现了在被检测区域中各个点进行虚拟聚焦,提供了更高精度和更广范围的成像.本文通过M2M超声激励接收仪采集信号,使用32阵元的相控阵探头分别对B型标准试块和钢轨进行检测,实现了线性扫描、扇形扫描和全聚焦成像.并比对了不同聚焦方法对约3/5倍波长的小缺陷和约2倍波长的大缺陷成像效果的影响.结果表明,与相控阵传统的扫查方式相比,全聚焦成像对于小缺陷成像效果最优;对于大缺陷,在横轴方向缺陷成像可能小于实际缺陷大小,但总的分辨率优于传统的相控阵扫查.
作者:朱文发 徐梦云 范国鹏 张海燕
作者单位:上海工程技术大学,上海201620;上海大学,上海200444上海大学,上海200444
母体文献:2017年西安-上海声学学会第五届声学学术会议论文集
会议名称:2017年西安-上海声学学会第五届声学学术会议  
会议时间:2017年12月1日
会议地点:西安
主办单位:西安市声学学会,上海市声学学会
语种:chi
分类号:TG1TP2
关键词:超声相控阵  缺陷检测  聚焦方法  成像效果
在线出版日期:2020年11月30日
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2024-12-1 21:11 上传
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