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[数理和化学] 近红外截止滤光膜IRCUT的设计与镀制

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admin 发表于 2024-12-1 20:25 | 查看全部阅读模式

近红外截止滤光膜IRCUT的设计与镀制.pdf
针对近红外截止滤光膜具有通带波段内平均透射率高,抑制带截止深度深,波纹系数小,可适应复杂环境条件,具有高稳定性和高可靠性等特点,论述了近红外截止滤光膜的设计原则和方法,采用IAD等离子体辅助沉积工艺,镀制红外截止滤光膜,论证了等离子体辅助沉积工艺有利于改善近红外截止滤光膜层的显微结构和残余应力消除".
作者：杨伟声
作者单位：昆明物理研究所,云南昆明650223
母体文献：2017年光学技术研讨会暨交叉学科论坛论文集
会议名称：2017年光学技术研讨会暨交叉学科论坛
会议时间：2017年9月20日
会议地点：昆明
主办单位：上海市红外与遥感学会,云南省光学学会
语种：chi
分类号：TN9TM9
关键词：近红外截止滤光膜等离子体辅助沉积显微结构透射率残余应力
在线出版日期：2020年6月28日
基金项目：
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2024-12-1 20:25 上传

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