氧化石墨烯铬离子印迹材料的制备及其除CrⅢ性能研究

针对制革废水二级处理出水的Cr(Ⅲ)去除，采用表面离子印迹技术制备了磁性氧化石墨烯表面Cr(Ⅲ)离子印迹材料Fe3O4@SiO2-GOⅡP，探讨了pH和废水中共存金属离子对其Cr(Ⅲ)吸附性能的影响，并就其去除实际制革废水中Cr(Ⅲ)的性能进行了测试和评价。结果表明：制备的Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP，其表面形成的Cr(Ⅲ)印迹空穴，对废水中的Cr(Ⅲ)具有较高的选择吸附性能；pH对其Cr(Ⅲ)吸附性能具有显著影响，适宜的pH为6.1左右；对于Cr(Ⅲ)浓度为2.65mg/L的制革废水二级处理出水，Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP投加剂量为3～4g/L时，出水Cr(Ⅲ)浓度可达到GB30486-2013要求的最为严格的标准；对吸附饱和的Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP，可采用0.1mol/L的HC1溶液进行洗涤和再生。
作者：李建政李怀
作者单位：哈尔滨工业大学城市水资源与水环境国家重点实验室,黑龙江哈尔滨150090
母体文献：
会议名称：第六届重金属污染防治及风险评价研讨会  
会议时间：2016年12月1日
会议地点：厦门
主办单位：中国环境科学学会
语种：chi
分类号：O63TQ3
关键词：印迹材料  氧化石墨烯  制备工艺  铬金属离子  吸附性能
在线出版日期：2017年3月31日
基金项目：
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