GBT 34900-2017 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法

微机电系统（MEMS）技术基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
Micro-electromechanicalsystemtechnology-MeasuringmethodforresidualstrainmeasurementsofMEMSmicrostructuresusinganopticalinterferometer

摘要:本标准规定了基于光学干涉显微镜获取的微双端固支梁结构表面形貌进行残余应变测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。

标准编号：GB/T34900-2017
标准类型：GB
发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
发布日期：2017年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2018年1月1日
关键词：

GB/T 34900-2017 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法.pdf

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