氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响 - 第四届高能束加工技术国际学术会议.pdf
<p>论文《氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响》探讨了氧含量在离子注入和沉积过程中对TaN薄膜力学性能的影响。通过实验分析，研究发现氧含量的变化显著影响薄膜的硬度、弹性模量和内应力。该研究为优化TaN薄膜的制备工艺提供了理论依据，对提高其在微电子和精密制造领域的应用性能具有重要意义。</p>文档为pdf格式，1.14MB，总共4页。</br>
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