本文研究了退火处理对Ta_AlOx_NiFe_AlOx_Ta超薄薄膜性能的影响。通过实验分析，发现退火温度和时间显著影响薄膜的结构与电磁性能。研究结果为优化此类薄膜材料的制备工艺提供了理论依据和技术支持。
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