会议论文《超薄栅氧化层中应力诱导漏电流的研究》探讨了在超薄栅氧化层中由机械应力引起的漏电流现象。该研究对于理解器件可靠性及优化半导体工艺具有重要意义。文章通过实验分析，揭示了应力与漏电流之间的关系，为提高集成电路的稳定性和寿命提供了理论依据。
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