会议论文《负偏压对磁控溅射氧化铝薄膜的影响》探讨了在磁控溅射过程中，负偏压对氧化铝薄膜性能的影响。研究结果表明，适当调节负偏压可以改善薄膜的致密性和均匀性，提高其光学和电学性能。该论文为优化磁控溅射工艺提供了理论依据和技术支持，对薄膜制备技术的发展具有重要意义。
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