等离子增强化学气相沉积制备氧化硅薄膜的质谱诊断研究 - 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议.pdf

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2026-1-12 17:19 | 查看全部阅读模式

会议论文《等离子增强化学气相沉积制备氧化硅薄膜的质谱诊断研究》探讨了利用质谱技术对等离子增强化学气相沉积过程中气体成分进行实时监测的方法。该研究为优化氧化硅薄膜的制备工艺提供了重要依据，具有重要的理论和应用价值。

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