离子束辅助轰击对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响 - 2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会.pdf

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2026-1-12 17:09 | 查看全部 阅读模式

2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会的会议论文《离子束辅助轰击对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响》研究了离子束辅助技术对TiAlN膜层性能的影响。通过实验分析,发现离子束辅助能改善膜层的致密性和结合力,提高其耐磨和耐腐蚀性能。该研究为优化电弧离子镀工艺提供了理论依据和技术支持。

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离子束辅助轰击对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响 - 2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
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