PVD法在石墨表面沉积钨涂层的性能研究 - 2012全国荷电粒子源、粒子束学术会议.pdf
<p>论文《PVD法在石墨表面沉积钨涂层的性能研究》探讨了采用物理气相沉积（PVD）技术在石墨基体上制备钨涂层的工艺及性能。研究分析了涂层的微观结构、结合强度和热稳定性等关键指标，为提高石墨材料在高温环境下的使用性能提供了理论依据和技术支持，对电子束源等应用领域具有重要意义。</p>文档为pdf格式，1.11MB，总共4页。</br>
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