Study of cluster magnetorheological-chemical mechanicalpolishing technology for the atomic scale ultra-smooth surfaceplanarization of SiC - 2012年中国(国际)光整加工技术及表面工程学术会议.pdf
<p>该论文介绍了簇状磁流变-化学机械抛光技术在碳化硅材料原子级超光滑表面平整化中的应用研究。通过结合磁流变技术和化学机械抛光的优势，实现了对SiC表面的高效、高精度加工。研究提出了新的工艺方法，有效提高了表面质量，降低了粗糙度，为半导体和光学器件的制造提供了重要技术支持。</p>文档为pdf格式，1.11MB，总共8页。</br>
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